英特爾宣布 完成首台商用高數值孔徑EUV光刻機組裝
半導體巨人英特爾於18日宣布,在其俄勒岡州的研發中心,完成業界首台商用高數值孔徑極紫外光(High-NA EUV)光刻機的組裝。
半導體設備商艾司摩爾(ASML)於去年底在社群平台X貼出圖片,顯示開始將第一套高數值孔徑EUV系統的主要部分出貨給英特爾。如今英特爾宣布已完成組裝,展現領先競爭對手的用意明顯。
在4年發展5個製程節點計畫,預計最先進可達Intel 18A製程之後,英特爾規畫未來將在其Intel 14A製程正式導入利用高數值孔徑EUV。先前根據分析師預估,這套高數值孔徑EUV設備的價格約達2.5億歐元。
英特爾於日前透露,將在2027年前開發出14A製程,以及Intel 14A-E製程。
英特爾強調,高數值孔徑EUV設備TWINSCAN EXE:5000現正進行校準,這套設備結合該公司晶圓廠內的其他技術,有望能製印出比現有EUV設備小1.7倍的特徵。
同時,英特爾提到,後續該公司也已計畫購置下一代TWINSCAN EXE:5200B系統。
延伸閱讀
贊助廣告
商品推薦
udn討論區
共 0 則留言
規範
- 張貼文章或下標籤,不得有違法或侵害他人權益之言論,違者應自負法律責任。
- 對於明知不實或過度情緒謾罵之言論,經網友檢舉或本網站發現,聯合新聞網有權逕予刪除文章、停權或解除會員資格。不同意上述規範者,請勿張貼文章。
- 對於無意義、與本文無關、明知不實、謾罵之標籤,聯合新聞網有權逕予刪除標籤、停權或解除會員資格。不同意上述規範者,請勿下標籤。
- 凡「暱稱」涉及謾罵、髒話穢言、侵害他人權利,聯合新聞網有權逕予刪除發言文章、停權或解除會員資格。不同意上述規範者,請勿張貼文章。
FB留言