力旺衝刺先進製程 報捷

矽智財（IP）廠力旺（3529）與台積電在先進製程合作報捷，昨（16）日宣布旗下NeoFuse技術於台積電先進製程開發，不僅於第1季完成N5製程認證，N4P製程認證也預計於今年底完成。

另外，汽車應用的N5A製程認證也於4月設計定案（tape-out），預計於2024年初完成，有助挹注營運。

力旺昨日獲頒台積電開放創新平台OIP年度合作夥伴獎，已連續14年得獎。力旺是台積電長期合作夥伴，截至目前為止，已部署近740個IP在台積電各個製程平台上。

力旺指出，正規劃布局更先進的N3E、N3P與N3AE等技術平台，該公司長期致力於IP創新，與台積電共同在各製程平台布建可靠的NVM IP解決方案。

力旺總經理何明洲提到，NeoFuse技術成功在N12、N7、N6與N5製程取得量產紀錄，台積電的技術與支持是這項成功的關鍵要素。立基於NeoFuse技術上的晶片指紋NeoPUF和一系列PUF安全解決方案的應用範圍，同樣受惠於上述進展。

何明洲認為，從應用面來看，包括AI、高效能運算、汽車、物聯網等領域，都需要NVM和安全IP，這些年力旺也在NeoFuse技術上持續開發NeoPUF衍生晶片安全解決方案來保護整體晶片和系統運作。